Physics of thin films Vol. 18, Plasma sources for thin film deposition and etching - advances in research and development
- Författare
- (Edited by Maurice H. Francombe, John L. Vossen.)
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Cop. 1994 | USA, New York | xii, 328 sidor. |